高企申报专利条件 专利申请办理流程

高企申报专利条件 专利申请办理流程在我国，专利主要分为发明专利、实用新型专利和外观设计专利这三种类型。其中，这三种专利中发明专利和实用新型专利被申请的比较多。授予专利权的发明和实用新型，应当具备新颖性、创造性和实用性。
高企申报专利条件 专利申请办理流程
1、发明专利
所需材料：请求书、说明书、权利要求书、（说明书附图）、说明书摘要、实质审查请求书。
申请流程：提出申请→受理→缴纳官费→初步审查→（初审合格）进入公布阶段→实质审查→审查意见→授权或驳回→授权后办理登记手续→授权公告并获得专利证书。
审查周期：2-3年左右。
、实用新型专利
所需材料：请求书、说明书、权利要求书、说明书附图、说明书摘要、附图摘要。
申请流程：提出申请→受理→缴纳官费→初步审查→（审查意见→）授权或驳回→授权后办理登记手续→授权公告并获得专利证书。
审查周期：6-12个月左右。
3、外观设计专利
所需材料：请求书、外观设计图片或照片、外观设计简要说明。
申请流程：提出申请→受理→缴纳官费→初步审查→授权/驳回→授权后办理登记手续→授权公告并获得专利证书。
审查周期：4-6个月。